در اين اختراع، پوشش نانوساختار Ti با استفاده از فرايند رسوب گذاري شيميايي از فاز بخار با بهره گيري از پلاسما (PACVD) بر روي قطعات ايجاد شد. براي ايجاد پوشش در اين اختراع، علاوه برگازهاي ورودي (هيدروژن و آرگون) از بخار تتراكلريد تيتانيم استفاده شد. در اين فرايند بعد از ايجاد پلاسما انتظار مي رود كه مواد اوليه موجود در محفظه تجزيه شده و يون هاي موردنظر بر روي كاتد (كه محل قرارگيري قطعه مي باشد) قرار گيرند. انتظار مي رود با گذشت زمان، ضخامت پوشش افزايش يابد. در اين فرايند درصد چرخه كار بين 33 تا 80 درصد، ولتاژ اعمالي بين 500 تا 650 ولت، دماي لايه نشاني بين 450 تا 600 درجه سانتيگراد، زمان لايه نشاني بين 1 تا 10 ساعت، فركانس دستگاه بين 6 تا 12 كيلوهرتز، فشار محفظه بين 1 تا 6 ميلي بار در نظر گرفته شد. پوشش نهايي بدست آمده داراي ساختار با اندازه دانه بين 10 تا 120 نانومتر و ضخامت آن بين 1 تا 10 ميكرومتر مي باشد.

در اين اختراع، پوشش نانوساختار DLC/D با استفاده از فرايند رسوب گذاري شيميايي از فاز بخار با بهره گيري از پلاسما (PACVD) بر روي قطعات صنعتي بهره گرفته شد. براي دست يابي به خواص مطلوب پوشش، قبل از عمليات لايه نشاني، بستر آزمايش با تركيب گازي مناسب از آرگون، نيتروژن و هيدروژن مورد عمليات نيتروژن دهي پلاسمايي قرار گرفت. براي ايجاد پوشش در اين اختراع، علاوه برگازهاي ورودي (هيدروژن، آرگون) از گاز متان استفاده شد. در اين فرايند بعد از ايجاد پلاسما انتظار ميرود كه مواد اوليه موجود در محفظه تجزيه شده و يون هاي موردنظر بر روي كاتد (كه محل قرارگيري قطعه مي باشد) قرار گيرند. با گذشت زمان پوشش نانو كامپوزيتي DLC/D تشكيل شد. در اين فرايند درصد چرخه كار بين 30 تا 80 درصد، ولتاژ اعمالي بين 450 تا 650 ولت، دماي لايه نشاني بين 100 تا 200 درجه سانتيگراد، زمان لايه نشاني بين 1 تا 5 ساعت، فركانس دستگاه بين 6 تا 12 كيلوهرتز، فشار محفظه بين 1 تا 100 پاسكال در نظر گرفته شد. پوشش نهايي بدست آمده داراي ساختار با اندازه دانه بين 20 تا 50 نانومتر و ضخامت آن بين 5/0 تا 5/2 ميكرومتر مي باشد.